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性能比硅優(yōu)越的半導(dǎo)體材料,立方砷化硼取得研究進(jìn)展

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性能比硅優(yōu)越的半導(dǎo)體材料,立方砷化硼取得研究進(jìn)展

來源:科技新報(bào)


       立方砷化硼是一種媲美金剛石的超高熱導(dǎo)率半導(dǎo)體,自2018年以來受到廣泛關(guān)注,更被稱為可能是最好的半導(dǎo)體材料,但一直不確定是否商用化。直到最近,麻省理工學(xué)院研究人員首次取得重要科學(xué)進(jìn)展,于實(shí)驗(yàn)中發(fā)現(xiàn)立方砷化硼晶體為電子、電洞提供高載流子遷移率,擴(kuò)大該材料于商業(yè)領(lǐng)域的潛在用途,比如提高CPU速度。
  
  硅、砷化鎵等材料具有良好的電子遷移率,但電洞遷移率較差,此外硅的導(dǎo)熱率表現(xiàn)不佳,而“發(fā)熱”是許多電子產(chǎn)品的主要瓶頸,也因此碳化硅正在逐漸取代硅(包括特斯拉在內(nèi)的電動車),盡管碳化硅電子移動率(electronmobility)較低,但導(dǎo)熱率是硅的3倍。
  
  那么想象一下,導(dǎo)熱率與電子移動率都比硅還高10倍的砷化硼材料若有朝一日成功實(shí)際應(yīng)用,將改變半導(dǎo)體游戲規(guī)則。
  
  研究人員表示,一種稱為“立方砷化硼”的材料可以克服低電洞移動率與低導(dǎo)熱率這2個重大限制。立方砷化硼除了具有高電子移動率與電洞移動率,還具有出色的導(dǎo)熱性,是迄今為止發(fā)現(xiàn)最好的半導(dǎo)體材料,也可能是最好的一種。
  
  但我們需更多工作才能確定立方砷化硼能否以實(shí)用、經(jīng)濟(jì)的形式制造,才能進(jìn)一步談及替代無處不在的硅,直到最近,麻省理工學(xué)院團(tuán)隊(duì)首次透過實(shí)驗(yàn)驗(yàn)證立方砷化硼材料在室溫下的高載流子遷移率。
  
  雖然科學(xué)家證明了立方砷化硼出色的熱性能和電性能,看起來幾乎是理想的半導(dǎo)體材料,但是否能真正進(jìn)入市場與設(shè)備應(yīng)用還有待商榷,因?yàn)榱⒎缴榛鸩牧系钠渌阅苓€需要測試,比如長期穩(wěn)定性,以及最巨大的挑戰(zhàn):大規(guī)模商業(yè)化生產(chǎn)純化立方砷化硼。硅花了幾十年時(shí)間才走到如今制造純度超過99.99999999%的技術(shù),未來是否可能對新材料投入高額資金研發(fā),還有待觀察。
  
  新論文發(fā)表在《科學(xué)》(Science)期刊。
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